Un vas de reacție, cunoscut și sub denumirea de rezervor de reacție sau vas sub presiune, este un recipient închis capabil de încălzire, evaporare, răcire și amestecare prin proiectarea structurală și configurația parametrilor, permițând reacții multifazice precum gaz-lichid, lichid-lichid și reacții gaz-lichid{{3}solid. Este utilizat în principal în procese precum sulfidarea, nitrarea, hidrogenarea, hidrocarbonatarea, polimerizarea și condensarea (de exemplu, reactoare, descompozitoare, cazane de polimerizare). Acest echipament este utilizat pe scară largă în industria petrolieră, chimică, cauciuc, pesticide, farmaceutică, alimentară, de acoperire și biomedicală. Materialele comune includ oțel carbon mangan, oțel inoxidabil, zirconiu, aliaje pe bază de nichel-și materiale compozite.
Structura de bază a vasului de reacție constă din corpul vasului, dispozitivul de agitare, dispozitivul de transfer de căldură și dispozitivul de etanșare. Temperatura de reacție este menținută de o manta sau bobină, iar un mediu de-înaltă presiune este menținut prin etanșări mecanice sau magnetice. Principiul său de funcționare se bazează pe reacția chimică a materialelor în condiții specifice de temperatură, presiune și agitare. Poate fi aplicat la determinarea metalelor grele, dezvoltarea de noi materiale, digestia probelor și sinteza organică. Sistemul poate monitoriza parametri precum temperatura și presiunea în timp real, cu adaos de material precis la gram și control al temperaturii cu precizie de 0,1 grade. Se reglează automat sau emite avertismente atunci când apar abateri.
